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高通:正考慮實施臺積電、三星電子雙源生產(chǎn)戰(zhàn)略

發(fā)布日期:2024-06-06     440 次

6 月 5 日消息,今年 2 月,@Tech_Reve 曾爆料稱,高通驍龍 8 Gen 4 等今年的旗艦芯片都將基于臺積電 3nm 工藝制造,而明年推出的驍龍 8 Gen 5 將會同時采用臺積電 + 三星電子生產(chǎn)。

在昨日于臺北國際電腦展舉行的一次媒體發(fā)布會上,高通 CEO 克里斯蒂亞諾?安蒙在回答一位記者有關“依賴臺積電生產(chǎn)智能手機芯片的風險”時表示,他正考慮讓臺積電與三星電子實施雙源生產(chǎn)戰(zhàn)略。

安蒙表示:“目前的首要任務是專注于臺積電的代工生產(chǎn),但讓一家公司同時處理這兩個方面可能需要付出巨大努力?!?他歡迎與臺積電和三星電子繼續(xù)合作,并表示將繼續(xù)支持這種方式。

眾所周知,初代驍龍 8 芯片便是由三星電子代工,但由于過熱等問題后續(xù)又轉向了臺積電。然而,隨著剛剛發(fā)布的驍龍 X Elite 芯片需求急劇增加,高通似乎不得不再次考慮與三星進行合作。

此外,高通內(nèi)部也對三星電子下一代 2nm 工藝制程表示贊賞,并正在考慮重新分配產(chǎn)能,以實現(xiàn)其制造過程的多元化。


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@Tech_Reve 曾爆料稱,高通計劃繼續(xù)讓臺積電來生產(chǎn)驍龍 8 Gen 5 芯片(N3E),而用于 Galaxy S26 系列手機的驍龍 8 Gen 5 for Galaxy 芯片將采用三星 SF2P 工藝。

注:與 SF3 相比,SF2 工藝可以在相同的頻率和復雜度下提高 25% 的功耗效率,在相同的功耗和復雜度下提高 12% 的性能,在相同的性能和復雜度下減少 5% 的面積。

為了讓 SF2 工藝更具競爭力,三星還將為該工藝提供一系列先進的 IP 組合,包括 LPDDR5x、HBM3P、PCIe Gen6 和 112G SerDes 等。

而 SF2P 是在 SF2 工藝基礎上,針對高性能計算(HPC)再次優(yōu)化,預估在性能方面會有更大的改進。


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